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專門用于硅碳化合物(SiC) 的離子激活和退火處理，可實現SiC片在高溫真空環境下完成活性工藝； 設備適用于SiC基功率器件制造中的離子激活和退火工藝環節； 加熱腔與工藝腔獨立密閉設計，提供工藝腔的潔凈度；
專用于硅-碳化合物(SiC）氧化處理，可實現SiC片高溫環境下完成高溫氧化工藝； 設備適用于SiC功率器件制造中的高溫氧化工藝環節； 加熱腔與工藝腔獨立密閉設計，提供工藝腔的潔凈度。
該設備是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一，用于大規模集成電路、 分立器件、電力電子、光電器件等行業的磷/硼擴散、氧化、退火、合金和燒結等工藝； 主要用于初始氧化層、柵氧化層、場氧化層等多種氧化介質層的制備工藝。
該設備是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一，用于大規模集成電路、 分立器件、電力電子、光電器件等行業的磷/硼擴散、氧化、退火、合金和燒結等工藝 ； 主要用于初始氧化層、柵氧化層、場氧化層等多種氧化介質層的制備工藝。