石墨烯薄膜CVD設備
所屬分類：
石墨烯設備
概要：
◆ 本系統是一套完備的石墨烯制備系統,包括硬件和軟件部分 ◆ 工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制生長工藝，既可以生長出六邊形的石墨烯單晶，也可以生長出花瓣狀的石墨烯的單晶
關鍵詞：
石墨烯薄膜CVD
石墨烯薄膜CVD設備
產品概述/Product Introduction：
♦ 本系統是一套完備的石墨烯制備系統，包括硬件和軟件部分
This system is a complete graphene preparation system, including hardware and software
♦ 工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制生長工藝，既可以生長出六邊形的石墨烯單晶，也可以生長出花瓣狀的石墨烯的單晶
Working in normal pressure atmosphere or vacuum condition, by controlling the growth process, both hexagonal graphene single crystal and petal-shaped graphene single crystal can be grown
產品特點/Product Characteristics：
♦ 采用單腔室或雙腔室結構
Adopt single chamber or double chamber structure
♦ 取料腔室快速冷卻
Rapid cooling of material taking chamber
♦ 該系統主要由電控系統、樣品加熱系統、工藝腔室系統、取放料系統、真空系統、氣路系統、壓力控制系統等組成
The system is mainly composed of electric control system, sample heating system, process chambersystem, material taking and discharging system, vacuum system, gas path system, pressure controlsystem and so on
♦ 結構型式:臥式，間歇連續式自動控制
Structure type: Horizontal, intermittent continuous automatic control
♦ 適應材料規格:A3尺寸
Suitable material specifications: A3 size
♦ 裝片量:200片
Loading capacity: 200 tablets
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